パッシベーションガラス

パッシベーションガラス

鉛フリーを含む幅広い品揃えより、ショットのパッシベーションガラスは多様な電気部品に正確に適合することができます。 ショットの専門家が高品質な材料を選択・加工することで、お客様に優れた絶縁性を提供しています。

優れた成分適合のために微調整された組成物

優れた絶縁性

ショットは、アルカリ含有量が非常に少ない材料(特にナトリウム)を使用することで、パッシベーションガラスパウダーの高い絶縁性を実現しています。 これは、最高品質の原料を調達し、専門的な製造プロセスを使用することで達成されます。

熱膨張率の一致

ショットの組成の選択により、ガラスの熱膨張係数を半導体部品に完全に一致させることができます。 亜鉛、鉛、ケイ酸塩、ホウ酸塩を組み合わたさまざまな組成があり、鉛フリーのパウダーにはビスマスが含まれることもあります。

鉛フリーのガラスタイプ

ショットのパッシベーションガラスは、すべての一般的なパッシベーション用途において鉛フリーソリューションとして提供できます。

高品質なガラスの幅広い選択肢

標準的な粒度分布と粒径を備えた高純度ガラスの豊富な品揃えに加え、カスタムメイドのパッシベーションガラスの配合にも対応致します。

仕様

パッシベーションガラスは、多様なガラス組成によりさまざまな要求仕様にお応えします。パッシベーションガラスはすべて、ガラスパウダーとして供給されさまざまな粒径で提供されます。 

ガラス番号  タイプ 主なアプリケーション α(20/300)  10-6/K Tg °C Pb含有量 wt% 発火温度(°C) 最小保持時間  Tj °C 板厚 µm 
鉛含有
G018-205 Pb-Zn-B 焼結ガラスダイオード  4.45 632 1-5  690 10  -
G017-388 

Zn-B-Si 複合材

サイリスタ、高

遮断整流器


3.6 550  1-5  700 5 180   ≥ 30
G017-002  Zn-B-Si 複合材  焼結ガラスダイオード  3.7  545  1-5  700 10  180  -
G017-096R  Pb-B-Si 

焼結ガラス、

プレーナ型および

メサ型ダイオード

4.8 456 10-50  680  160 
G017-004 

Pb-B-Si

組成

メサ型ダイオード  4.1 440   10-50 740  5 160   ≥ 30
G017-230

Pb-B-Si

組成 

トランジスタ  4.2   440  10-50 700  4 160   ≥ 25
G017-725  Pb-B-Si   焼結ガラスダイオード 4.9 468  10-50  670  10  180 
G017-997 

Pb-B-Si

組成 

 

ウエハー

パッシベーション

4.4 485  10-50 760 20  180  -
G018-133 

Pb-B-Si

組成 

  
焼結ガラスダイオード  4.8  463  10-50  690  30 -
 鉛フリー
G018-200  Zn-B-Si  焼結ガラスダイオード  4.6 557  665 10  -
G018-197 Zn-B-Si  焼結ガラスダイオード  4.4  557  675  10 
G018-255  Bi-Zn-B  バリスタ  9.4  396  - 520  15 
G018-434  Zn-B-Si  焼結ガラスダイオード
4.1  563  - 680  20  > 25

 

技術

パッシベーションガラスパウダーは2つのステップで製造されます。

  1. 原料ガラスは、特別設計されたガラスの溶融タンクで溶融されます。
  2. ガラスは、さまざまな微細粒径に粉砕されます

お客様でのパッシベーションガラスパウダーの処理方法はさまざまです。 焼結ガラスダイオードの製造用には、脱イオン水によりスラリー状のガラスパウダーをダイオード本体に塗布した後、加熱炉で焼結します。 ウエハーパッシベーションには、スピンコート、ドクターブレーディング、沈降、電気泳動またはスクリーン印刷によって、有機カップリング材をコーティングします。

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