AF 32® eco
ユニークな特性と半導体プロセス互換性を持つAF 32® ecoは、設計者に柔軟なオプションを提供します。 この無アルカリガラスは、ショット独自のダウンドロープロセスを使用して製造されているため、幅広い厚さ範囲、優れた透過率、優れた表面品質を実現します。
スムーズで安定した堅牢性
SCHOTT AF 32® eco はシリコンウエハーと同様に熱膨張係数が低いため、半導体業界のウエハレベルパッケージングに最適です。 高い熱安定性、高い光学品質、優れた誘電特性、非常に低い粗さにより、幅広い用途に適しています。
幅広い厳密に制御された厚み
ショット独自のダウンドロー技術により、 0.03 mm から 0.5 mm の厚さの製品を製造することができます。 AF 32® eco は、 12 ” ウェハ ― などの大型タイプに適しています。 これらのすべてのオプションにおいて、厳密な幾何学的公差は、どのような用途分野であっても信頼性の高い性能を意味します。
卓越した技術特性
ショットAF 32® ecoの優れた特性は、高い汎用性を可能にします。 サイズ、バルク、表面品質などの高度な技術特性と高い光学透過率、高い熱安定性、低い誘電損失率、低いCTEを兼ね備えたAF 32® ecoは、要求の厳しい環境でも効果を発揮します。 無アルカリでヒ素やアンチモンを使用せずに製造されているAF 32® ecoは、多数の産業から高い評価を受けているガラスです。
さまざまな厚さをご用意
AF 32® eco は、非常に薄い 30 µ m ～ 0.5 mm の幅広い板厚でご用意しています。
高透過率
AF 32® eco は、 UV - A 、可視光線、近赤外領域で優れた透過特性を示します。
低CTE
シリコンと同様の熱膨張係数 (CTE) を持ち、半導体および MEMS 産業のシリコンチップのカバーおよび基板として適しています。
「ガラスには優れた誘電特性があります」
誘電損失が少ないため、 SCHOTT AF 32® eco は RF および HF 用途に最適です。
高温抵抗
SCHOTT AF 32® eco の耐温度性は最高 650 °C です。
優れた表面品質と平坦度
高レベルのガラス品質と非常に低い粗さ値の表面により、さらなる表面改良の必要性がなくなります。
