Variantes de produto do SCHOTT RealView®

A SCHOTT atende a inovadores de realidade aumentada e mista em todo o mundo como o principal fornecedor de substratos para os guias de ondas em óculos inteligentes ou dispositivos montados na cabeça. Para todas as tecnologias da indústria, a SCHOTT tem o produto certo em seu portfólio para atender à mais alta demanda de qualidade preparada para atender a esses mercados em rápido crescimento.
 
SCHOTT RealView® 1.9 leve

SCHOTT RealView® 1.9 leve

O SCHOTT RealView® 1.9 leve aprimora a família SCHOTT de wafers de alto índice com um peso significativamente reduzido para proporcionar conforto durante todo o dia.
SCHOTT RealView® 1.9 leve

CARACTERÍSTICAS

Com uma densidade reduzida de 20%, o SCHOTT RealView® 1.9 leve não compromete a qualidade da imagem e mantém o alto índice de refração, necessário para o setor de realidade aumentada.

 

AS VANTAGENS PARA VOCÊ

  • Alto índice de refração e baixa densidade oferecidos ao mesmo tempo.
  • Adequação comprovada para a fabricação de litografia nanoimpressa.
  • Resina com correspondência de índice disponível.
  • Sob medida para alta robustez mecânica. 
  • O histórico da indústria de realidade aumentada na produção em massa de wafers atende aos mais altos padrões de qualidade de forma consistente.
SCHOTT RealView® ultra

SCHOTT RealView® ultra

Esse novo grau de wafer ultraplano minimiza a flutuação da qualidade da imagem para guias de ondas difrativas e permite dispositivos mais finos e leves para manter a impressionante qualidade de imagem.
SCHOTT RealView® ultra

CARACTERÍSTICAS

Diminuir a densidade do vidro ou a espessura do wafer pode oferecer redução de peso essencial para os guias de ondas, mas tem um preço em termos de qualidade de imagem inferior. O SCHOTT RealView® ultra não só melhora a planicidade do wafer em até 60%, mas também aumenta a qualidade da imagem, permitindo que os fabricantes de dispositivos de RA minimizem a variação de imagem entre peças oculares individuais e maximizem os rendimentos da produção.

Aplicável a todo o portfólio do SCHOTT RealView®, esse novo grau ultra também pode remover até 30% do peso da balança e, combinado com o peso leve do SCHOTT RealView® 1.9 de baixa densidade, o SCHOTT RealView® ultra pode até mesmo oferecer uma redução de até 50% no peso do guia de ondas.

 

SUAS VANTAGENS

  • O controle rígido da planicidade minimiza as deflexões do feixe de luz nos guias de ondas para permitir a mais alta qualidade de imagem.
  • Tolerâncias mais altas para empilhar guias de ondas de várias camadas ajudam a aumentar o rendimento da fabricação.
  • Guias de ondas mais finos e leves podem ser produzidos sem comprometer a qualidade da imagem.
  • Experiência imersiva completa com o mais alto conforto de uso.
SCHOTT RealView® with titanium dioxide coatings

SCHOTT RealView® com revestimentos de dióxido de titânio

Esses wafers com índice de alta refração permitem guias de ondas de alto desempenho com nanoestruturas criadas por gravação iônica reativa.
SCHOTT RealView® com revestimentos de dióxido de titânio

CARACTERÍSTICAS

Com uma ampla variedade de índices de refração, o SCHOTT RealView® é o principal substrato para o método aditivo, com resinas com correspondência de índice e uma abordagem subtrativa com gravação direta no vidro.

Para complementar o portfólio da SCHOTT para a indústria de grades de alívio de superfície, os substratos SCHOTT RealView® também estão disponíveis com revestimentos dedicados para aplicações de gravação iônica reativa (RIE). Em combinação com substratos RealView® de índice alto, isso abre caminho para o desenvolvimento de dispositivos altamente imersivos com campos de visão grandes. Ao usar uma única camada de guia de ondas de alto desempenho, a miniaturização e a redução de peso podem ser levadas para o próximo nível.

 

SUAS VANTAGENS

  • Controle rígido da espessura da camada de TiO2 (faixa do nanômetro).
  • Alta homogeneidade na camada de TiO2 sem bolhas.
  • A qualidade do "SCHOTT RealView® ultra" é a base para um excelente desempenho.
  • Controle rigoroso da rugosidade.
  • Forte aderência entre o revestimento e o wafer.

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