Über 100 Schichten bis zum Spiegel

Zur Beschichtung der Substrate hat SCHOTT LITHOTEC eine „Advanced-Quality-Produktionslinie“ mit moderner Sputtertechnologie unter Reinraumbedingungen etabliert. Schon bei der Konzeption wurde auf das Erreichen niedriger Fehlerquoten Wert gelegt. Auf dem Weg vom Substrat zum Maskenblank werden über 100 Schichten aufgebracht – jeweils nur wenige Atomlagen dick. Da kein Material EUV-Strahlung von Natur aus reflektiert, müssen künstliche Kristallgitter generiert werden, die über Interferenz den notwendigen Spiegeleffekt erzeugen. Daraus erklärt sich auch die hohe Anzahl der aufzubringenden Schichten. Auch in diesem Bereich kooperiert SCHOTT LITHOTEC mit externen Partnern, darunter das Fraunhofer-Institut für Angewandete Optik und Feinmechanik (IOF, Jena) und die Physikalisch-Technische Bundesanstalt in Berlin. Die notwendige Messtechnik, um das Reflektionsverhalten der Maskenblanks schon während der Produktion zu untersuchen, wird speziell für SCHOTT LITHOTEC von der Jenoptik Mikrotechnik und der AIXUV GmbH (Aachen), dem ersten Anbieter von kommerziell verfügbaren EUV-Strahlungsquellen für den Laborbereich, entwickelt. Seit Anfang Mai 2001 laufen EUVL-Programme von SCHOTT LITHOTEC und SCHOTT GLAS, die vom Bundesministerium für Forschung und Bildung (BMBF) gefördert werden. Die Aktivitäten sind gleichermaßen in ein deutsches Gesamtkonzept zur EUVL wie in die europäische Forschungsinitiative MEDEA+ eingebunden. MEDEA ist das Nachfolgeprogramm für JESSI.

Gemeinsam zum Ziel

An dem EUVL-Konsortium beteiligt sind:
  • SCHOTT LITHOTEC
  • SCHOTT GLAS
  • Carl Zeiss
  • XTREME Technologies (ein Zusammenschluss von Lambda Physik und Jenoptik zur Entwicklung von EUV-Quellen)
  • Infineon
  • Philips
  • Leica
  • Jenoptik
  • ASML (als Stepperhersteller)