パッシベーションガラス

パッシベーションガラスは個別半導体およびバリスタ表面の化学的・機械的保護のために使用します。
パッシベーションガラスは半導体と直に物理的に接触しており、p-n接合を「不動態化する」ことによって、その機能を確実に保護します。同時に、個別デバイスの気密ハウジングとしても頻繁に使用されます。
パッシベーションガラスパウダーは特別に開発された素材組成を特長としています。主要な特性の一つが、アルカリ成分(特にNa+)を最小限に抑えることによって実現した絶縁抵抗の著しい高さです。これは、最高級の素材のみの使用と、特別な製造手順によって確立されます。
完成部品に応力をかけず、亀裂等の発生を防ぐため、パッシベーションガラスとその他の半導体コンポーネントの熱膨張係数を可能な限り一致させることが必要です。特殊な半導体にはガラスの面荷重の微調整も必要されます。弊社は最適な組み合わせが実現できるよう様々なガラス組成を提供しています。
見本市 & イベント
13.
March
展示会 OFC 2018, San Diego, CA, United States, 2018-03-13 - 03-15
17.
September
展示会 Gastech, Barcelona, España, 2018-09-17 - 09-20
13.
November
展示会 electronica, Munich, Deutschland, 2018-11-13 - 11-16
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ショット日本株式会社
〒528-0034
滋賀県 甲賀市水口町日電3-1
日本国
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